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含铀(U)薄膜在激光惯性约束聚变的实验研究中有重要的用途.研究其在不同气氛下的氧化性能可以为微靶制备、储存及物理实验提供关键的实验数据.通过超高真空磁控溅射技术制备了纯U薄膜及金-铀(Au-U)复合平面膜,将其在大气、高纯氩(Ar)气及超高真空度环境中暴露一段时间后,利用X射线光电子能谱仪结合Ar~+束深度剖析技术考察U层中氧(O)元素分布及价态,分析氧化产物及机理.结果显示,初始状态的U薄膜中未检测到O的存在.Au-U复合薄膜中的微观缺陷减弱了Au防护层的屏蔽效果,使其在3周左右时间内严重氧化,产物为U表面致密的氧化膜及缺陷周围的点状腐蚀物,主要成分均为二氧化铀(UO_2).在高纯Ar气中纯U薄膜仅暴露6 h后表面即被严重氧化,生成厚度不均匀的UO_2.在超高真空度环境下保存12 h后,纯U薄膜表面也发生明显氧化,生成厚度不足1 nm的UO_2.Ar~+束对铀氧化物的刻蚀会因择优溅射效应而使UO_2被还原成非化学计量的UO_(2-x),但这种效应受O含量的影响. 相似文献
64.
合成并表征了侧链液晶高分子聚甲基丙烯酸-对-甲氧基偶氮苯氧己基酯(PMAAZO6),
在不同条件下对其进行了光响应测试.
发现紫外光易诱导体系发生相转变;增加辐照光波长有利于分子发生整体取向.
不同温度下的光响应测试表明,
样品处于玻璃化转变温度之下是保持分子取向的前提. 相似文献
65.
通过高温固相反应在空气中制得单相Cd2Ge7O16:Pb2+长余辉发光材料.分析了Cd2Ge7O16和Cd2Ge7O16:Pb2+的激发光谱和发射光谱,指出Pb2+的发光是该离子的3P1-1S0跃迁产生的;分析了Cd2Ge7O16:Pb2+的发光存在基质对Pb2+的能量传递;并把长余辉性质归结为基质中Cd离子的挥发产生的空穴陷阱.提出了长余辉发光机理模型. 相似文献
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同源盒基因(homeoboxgenes)在植物,动物,真菌的广泛存在说明这种结构在真核生物进化过程中高度保守,并暗示其具有重要功能.本文将玉米kn-1同源盒插入表达载体pGEM△XbaI,并将形成的重组克隆pGEM△MK转化BL21(DE3)而获得高效表达;表达产物的分子量为29×103,并主要以可溶性蛋白形式存在.Kn-1,Quox-1,OSIH-1间的交叉免疫反应证实三者在蛋白质水平具同源性.而Kn-1同源结构域(Homeodomain)高效表达有助于进一步寻找其靶基因. 相似文献
68.
在C60单晶(111)解理面上制备出厚度约30 nm的K3C60单晶膜.利用同步辐射光源,在低温下(约150K)测量了样品法向发射的角分辨光电子谱.观察到K3C60导带和价带明显的色散.导带的光电子谱峰可清晰分辨出4个子峰,这些子峰的最大色散超过0.5eV,并且色散曲线与K3C60的一维无序晶体结构模型下的能带理论基本吻合,只是子带间隔差异较大. 相似文献
69.
采用UMT-3高温摩擦试验机评价了氩气气氛800℃热处理等离子喷涂NiAl-Bi2O3涂层在室温至800℃的摩擦磨损性能.通过分析热处理前后涂层及其摩擦表/界面的组成和微结构演变,首次研究了热处理NiAl-Bi2O3涂层的高低温润滑相(NiBi、Bi2O3和NiO)自适应再生机制及宽温域循环摩擦学行为.结果表明:热处理能使涂层中产生弥散增强的Al2O3和具有中低温润滑性的金属间化合物NiBi,提高了涂层室温至800℃的减摩抗磨性能,尤其使涂层在400℃的摩擦系数和磨损率分别从0.39和35.56×10-5 mm3/(N·m)降至0.28和8.53×10-5 mm3/(N·m);在800℃时,接触表面通过摩擦氧化再次产生润滑相(Bi2O3、NiO),并与增强相Al2 相似文献
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